日本
半導体製造プロセス用化学品
BASFは半導体製造プロセス用化学品を世界中の半導体工場に提供しています。日々進化していく市場の細かなニーズに高い技術力で応えます。品質評価のご依頼にも、台湾の評価施設で迅速に対応します。
| CMPスラリー液 | PLANAPUR® Series |
| メッキ液、メッキ液用添加剤 | CUPUR® Series |
| 洗浄液 | SELECTIPUR® Series |
| フォトリソグラフィー補助剤 (Defect Reduction Rinse) |
FOTOPUR® Series |
日本のほか台湾、韓国、アメリカの各国でも採用されています。
| 製品 | 日本 | 台湾 | 韓国 | アメリカ | |
| CMP | PLANAPUR® | ○ | ○ | ||
| WD | CUPUR® | ○ | ○ | ○ | ○ |
| ACEP | SELECTIPUR® | ○ | ○ | ○ | |
| FOTOPUR® | ○ | ○ | ○ |