日本

半導体製造プロセス用化学品

BASFは半導体製造プロセス用化学品を世界中の半導体工場に提供しています。日々進化していく市場の細かなニーズに高い技術力で応えます。品質評価のご依頼にも、台湾の評価施設で迅速に対応します。

CMPスラリー液  PLANAPUR® Series
メッキ液、メッキ液用添加剤 CUPUR® Series
洗浄液 SELECTIPUR® Series
フォトリソグラフィー補助剤
(Defect Reduction Rinse)
FOTOPUR® Series

日本のほか台湾、韓国、アメリカの各国でも採用されています。

製品   日本 台湾 韓国 アメリカ
CMP PLANAPUR®    
WD CUPUR®
ACEP SELECTIPUR®  
FOTOPUR®  

お問い合わせ先

BASFジャパン
電話: 03-5290-3036