반도체공정에서 사용되는 다양한 세정(Cleaning) 및 식각(Etching)을 위한 솔루션을 제공하고 있습니다. BASF의 대표적인 제품으로는 SELECTIPUR® Series와 FOTOPUR® Series가 있습니다.
반도체 평판디스플레이 및 리튬이온베터리 제조공정에서 발생되는 오염물질은 수율에 심각한영향을 미치기 때문에 BASF는 고객의 요구에 부합하는 다양한 전자급 케미칼을 우수하고 안정적인 품질로 시장에 공급하고 있으며 독자적인 정제 기술을 바탕으로 한 고품질의 HAFB(Hydroxyl Amine Free Base)는 반도체 세정제 용도로 사용되고 있습니다.
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반도체 CMP공정에 사용하기 위한 화학기계적 연마액(Abrasive/Chemical/DIW)을 제조하고 있으며 대표적인 제품은 PLANAPUR® T-series, PLANAPUR® C-series, PLANAPUR® G-series Ge/SiG와 PLANAPUR® S-serise등이 있으며, 모든 제품은 고객 맞춤형으로 개발 공급이 가능하고 뛰어난 품질안정성과 환경안정성을 갖추었습니다.
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